浴液用薬剤

発明者： , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：飯田昭夫
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-050737
公開番号（公開出願番号）：特開2003-252713
特許番号：特許第4245846号
出願日： 2002年02月27日
公開日（公表日）： 2003年09月10日
請求項（抜粋）：

【請求項1】二酸化チタン系光触媒とともに無機過酸化物を含有する浴液用薬剤において、浴液投入前においては、前記無機過酸化物は前記二酸化チタン系光触媒と分離可能とされており、前記二酸化チタン系光触媒を構成する二酸化チタン粒子がルチル型であることを特徴とする浴液用薬剤。

IPC (17件)：

A01N 59/00 ( 200 6.01) , A01N 59/16 ( 200 6.01) , A01P 3/00 ( 200 6.01) , A61K 8/29 ( 200 6.01) , A61P 31/00 ( 200 6.01) , B01J 35/02 ( 200 6.01) , C02F 1/32 ( 200 6.01) , C02F 1/50 ( 200 6.01) , C02F 1/72 ( 200 6.01) , C11D 7/08 ( 200 6.01) , C11D 7/14 ( 200 6.01) , C11D 7/16 ( 200 6.01) , C11D 7/18 ( 200 6.01) , C11D 7/20 ( 200 6.01) , C11D 7/26 ( 200 6.01) , A61L 2/02 ( 200 6.01) , A61L 2/16 ( 200 6.01)

FI (22件)：

A01N 59/00 A , A01N 59/16 Z , A01P 3/00 , A61K 8/29 , A61P 31/00 , B01J 35/02 J , C02F 1/32 , C02F 1/50 510 A , C02F 1/50 520 L , C02F 1/50 531 J , C02F 1/50 531 M , C02F 1/50 540 C , C02F 1/50 560 C , C02F 1/72 101 , C11D 7/08 , C11D 7/14 , C11D 7/16 , C11D 7/18 , C11D 7/20 , C11D 7/26 , A61L 2/02 Z , A61L 2/16 Z

引用特許：

出願人引用 (5件)

水処理用触媒及び水処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-353588 出願人：工業技術院長
液体浄化殺菌装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-118349 出願人：ブラザー工業株式会社
特開平4-141294

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審査官引用 (5件)

水処理用触媒及び水処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-353588 出願人：工業技術院長
液体浄化殺菌装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-118349 出願人：ブラザー工業株式会社
特開平4-141294

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