高分子ゲルの製造方法およびこの製造方法で得られた高分子ゲル

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小山有
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-055168
公開番号（公開出願番号）：特開2004-263081
特許番号：特許第3747227号
出願日： 2003年03月03日
公開日（公表日）： 2004年09月24日
請求項（抜粋）：

【請求項1】基板表面を疎水化処理した後に親水化処理し、次いでこの基板表面に天然高分子からなるゾルを流し出し、この天然高分子ゾルを冷却してゲル状とした後、基板から剥離することを特徴とする高分子ゲルの製造方法。

IPC (2件)：