特許
J-GLOBAL ID：201103031020449000

シリカ-チタニア複合膜とその製造方法及び複合構造体

発明者：
奥寺 浩樹

奥寺 浩樹 について

, 
野浪 亨

野浪 亨 について


出願人/特許権者：
独立行政法人産業技術総合研究所

独立行政法人産業技術総合研究所 について


代理人 (1件)： 須藤 政彦
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-075995
公開番号（公開出願番号）：特開2003-277056
特許番号：特許第4117371号
出願日： 2002年03月19日
公開日（公表日）： 2003年10月02日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 液中で基体の表面にチタン酸化物膜を形成させることにより、チタンとは異種の金属を成分とする金属化合物膜を1層又は複数層有し、最表面にチタン酸化物膜を有する複合膜を製造する方法であって、 (1)チタンアルコキシド溶液中に、チタンとは異種の金属を成分とする金属化合物膜を表面に1層又は複数層有する基体を浸漬する、 (2)該チタンアルコキシドを加水分解することにより液中に直径1〜30nmの低密度チタン酸コロイドを生ぜしめる、 (3)反応液を動的な状態(非静止条件)に保持した状態でこれらの低密度チタン酸コロイドの基体への付着と脱水重縮合により液中で該基体の表面をチタン酸化物を以て被覆せしめる、 ことを特徴とする複合膜の製造方法。
IPC (5件)：
C01G 23/04 ( 200 6.01) ,  B01J 21/08 ( 200 6.01) ,  B01J 35/02 ( 200 6.01) ,  B32B 9/00 ( 200 6.01) ,  C03C 17/34 ( 200 6.01)
FI (5件)：
C01G 23/04 C ,  B01J 21/08 M ,  B01J 35/02 J ,  B32B 9/00 A ,  C03C 17/34 Z
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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