特許

J-GLOBAL ID：201103047451630792

殺菌及び菌を除去する方法

発明者： 村上 睦夫 ,  寺本 和雄 ,  小玉 正智 ,  谷 徹 ,  遠藤 善裕
出願人/特許権者： 東レ株式会社
公報種別：特許公告
出願番号（国際出願番号）：特願昭61-084332
公開番号（公開出願番号）：特開昭62-240063
出願日： 1986年04月14日
公開日（公表日）： 1987年10月20日
請求項（抜粋）：

【請求項1】菌または菌を含有する媒体に、置換基として下記一般式(1)の官能基を主鎖または側鎖に有する重合体またはその成型品を接触させることを特徴とする殺菌及び菌を除去する方法。上式中、R1およびR2は水素原子または低級アルキル基を示す。

IPC (3件)：

A01N 61/00 D 9155-4H ,  A61L 2/16 Z ,  C08F 8/30 MHA