特許

J-GLOBAL ID：201103064937000814

殺菌及び菌の除去法

発明者： 村上 睦夫 ,  寺本 和雄 ,  小玉 正智 ,  谷 徹 ,  遠藤 善裕
出願人/特許権者： 東レ株式会社
公報種別：特許公告
出願番号（国際出願番号）：特願昭61-084333
公開番号（公開出願番号）：特開昭62-240064
出願日： 1986年04月14日
公開日（公表日）： 1987年10月20日
請求項（抜粋）：

【請求項1】菌または菌を含有する媒体に、置換基として下記一般式(1)の官能基を主鎖または側鎖に有する重合体またはその成型品を接触させることを特徴とする殺菌及び菌の除去法。上式中、R1は炭素数にして3個以上18個以下のメチレン鎖長を有するアルキル基を示し、R2およびR3はメチル基またはエチル基を示す。またR4およびR5は水素原子または低級アルキル基を示す。Xは塩素イオンで代表される通常の陰イオンを示す。

IPC (3件)：

A01N 61/00 D 9155-4H ,  A61L 2/16 Z ,  C08F 8/30 MHA