更新日 2006年01月24日
J-GLOBAL ID:201110091386580371研究資源コード:5000004347
プラズマCVD装置
プラズマCVDソウチ
Apparatus of plasma assisted chemical Vapor deposition.
資源分類:実験機器、施設等
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更新日 2006年01月24日
J-GLOBAL ID:201110091386580371研究資源コード:5000004347
プラズマCVDソウチ
Apparatus of plasma assisted chemical Vapor deposition.