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J-GLOBAL ID：201202289714538818   整理番号：12A1437477

Nd:YAG-PLD法によるナノロッド導入YBa₂Cu₃O_y薄膜の作製と臨界電流特性の成膜温度・ナノロッド添加量依存性

著者 (5件)： 藤田夏斗 (高知工大 環境理工) ,  春田正和 (高知工大 環境理工) ,  一瀬中 (電力中研) ,  前田敏彦 (高知工大 環境理工) ,  堀井滋 (高知工大 環境理工)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts of the Meeting. Japan Society of Applied Physics (CD-ROM))
巻： 73rd  ページ： ROMBUNNO.12P-A2-17  発行年： 2012年08月27日 
JST資料番号： Y0055B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： レーザ蒸着 ,  *ナノロッド ,  *YBCO薄膜 ,  *臨界電流 ,  臨界温度 ,  温度依存性 ,  薄膜成長 ,  パルスレーザ蒸着

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (9件)： Nd ,  YAG ,  PLD法 ,  ナノロッド ,  薄膜 ,  作製 ,  臨界電流 ,  成膜温度 ,  添加量依存性