研究者
J-GLOBAL ID:201301005818455480   更新日: 2024年01月30日

東條 孝志

toujyou takashi | takashi toujyou
所属機関・部署:
職名: 技術専門職員
研究分野 (1件): 薄膜、表面界面物性
競争的資金等の研究課題 (1件):
  • 2010 - 2010 高温・砒素雰囲気下における配列制御型ナノ構造の作製
論文 (7件):
MISC (21件):
  • 東條孝志, 塚本史郎. STMBE断続供給法によるInAs量子ドット形成過程観察に関する研究. 東京大学総合技術研究会予稿集 平成29年度(CD-ROM). 2017
  • 東條孝志, 東條孝志, 山口浩一, 塚本史郎. In断続供給によるInAs量子ドット形成のSTMBE観察. 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2015. 62nd
  • 東條孝志, 東條孝志, 山口浩一, 塚本史郎. In断続供給によるInAs量子ドット形成過程のSTMBE観察. 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2015. 76th
  • 東條孝志, 東條孝志, 山口浩一, 塚本史郎. STMBE法によるGaAs(001)上InAs3D島構造成長その場観察. 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2014. 61st
  • 東條孝志, 東條孝志, 山口浩一, 塚本史郎. InAsウェッティング層上ステップ構造近傍での量子ドット形成STMBE観察. 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2014. 75th
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