研究者
J-GLOBAL ID:201301080869785185
更新日: 2024年02月09日
宮本 聡
ミヤモト サトル | Miyamoto Satoru
所属機関・部署:
職名:
特任准教授
研究分野 (3件):
結晶工学
, 薄膜、表面界面物性
, 応用物性
研究キーワード (6件):
半導体同位体工学
, 量子材料・デバイス
, 低次元ナノ物性
, 結晶成長・界面接合
, 磁気共鳴・量子操作・量子計測
, 最先端半導体・太陽電池
競争的資金等の研究課題 (5件):
- 2021 - 2024 水素局在機能を用いたシリコン同位体薄膜の量子計算グレード化
- 2023 - オンシリコン多接合型太陽電池の研究開発
- 2022 - 拡張性のあるシリコン量子コンピュータ技術の開発
- 2021 - 2022 大規模量子計算に向けたシリコン同位体薄膜の革新的エピタキシー法の開発
- 2019 - 2020 シリコン量子AIの実現に向けた大規模量子計算の基盤技術開発
論文 (23件):
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Y. Kimata, K. Gotoh, S. Miyamoto, S. Kato, Y. Kurokawa, N. Usami. Fabrication of light trapping structures specialized for near-infrared light by nanoimprinting for the application to thin crystalline silicon solar cells. Discover Nano. 2023. 18. 72
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Y. Kurokawa, K. Sato, K. Shibata, S. Kato, S. Miyamoto, K. Gotoh, T. Itoh, N. Usami. Thermoelectric properties of Mg2Si thin films prepared by thermal evaporation of Mg and face-to-face annealing. Mater. Sci. Semicond. Process. 2023. 163. 107552
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F. Kumagai, K. Gotoh, S. Miyamoto, S. Kato, K. Kutsukake, N. Usami, Y. Kurokawa. Bayesian optimization of hydrogen plasma treatment in silicon quantum dot multilayer and application to solar cells. Nanoscale Research Letters. 2023. 18. 43
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K. Shibata, S. Kato, M. Kurosawa, K. Gotoh, S. Miyamoto, N. Usami, Y. Kurokawa. Preparation and thermoelectric characterization of boron-doped Si nanocrystals/silicon oxide multilayers. Japanese Journal of Applied Physics. 2023. 62. SC1074
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K. Fukuda, S. Miyamoto, M. Nakahara, S. Suzuki, M. Dhamrin, K. Maeda, K. Fujiwara, Y. Uraoka, N. Usami. Epitaxial growth of SiGe films by annealing Al-Ge alloyed pastes on Si substrate. Scientific Reports. 2022. 12. 1. 14770
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講演・口頭発表等 (95件):
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Thermoelectric properties of P-doped and B-doped polycrystalline silicon thin films
(2023 MRS Fall Meeting & Exhibit)
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Improvement of open-circuit voltage and fill factor of silicon quantum dots solar cells by Bayesian optimization process
(34th International Photovoltaic Science and Engineering Conference (PVSEC-34))
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印刷と焼成によるSiGe薄膜の熱平衡形成プロセスと太陽電池基板応用
(第33回 材料フォーラムTOKAI)
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Design investigations of devices and circuits for reflectometry-based defect assessment in Si quantum platforms
(Silicon Quantum Electronics Workshop 2023)
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Defect engineering for interface control of Si-qubit integrated layers
(Silicon Quantum Electronics Workshop 2023)
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学歴 (3件):
- 2007 - 2010 慶應義塾大学大学院 理工学研究科 基礎理工学専攻
- 2005 - 2007 慶應義塾大学大学院 理工学研究科 基礎理工学専攻
- 2001 - 2005 慶應義塾大学 理工学部 物理情報工学科
学位 (1件):
経歴 (9件):
- 2023/04 - 現在 名古屋大学 大学院工学研究科 物質プロセス工学専攻 物質創成工学 特任准教授
- 2019/04 - 2023/03 名古屋大学 大学院工学研究科 物質プロセス工学専攻 特任講師
- 2016/08 - 2019/03 慶應義塾大学大学院 理工学研究科 基礎理工学専攻 特任助教
- 2016/04 - 2016/07 慶應義塾大学大学院 理工学研究科 基礎理工学専攻 研究員
- 2015/05 - 2016/03 慶應義塾大学大学院 理工学研究科 基礎理工学専攻 特任助教
- 2015/04 - 2016/03 東北大学大学院 理学研究科 物理学専攻 客員研究員
- 2013/04 - 2015/03 東北大学大学院 理学研究科 物理学専攻 特任助教
- 2010/04 - 2013/03 独立行政法人 科学技術振興機構 ERATO平山核スピンエレクトロニクスPJ 研究員
- 2012/01 - 2012/03 Paul-Drude研究所(ドイツ) 客員研究員
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所属学会 (4件):
日本顕微鏡学会
, 米国MRS
, 日本物理学会
, 応用物理学会
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