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J-GLOBAL ID：201302207272561220   整理番号：13A1721819

Nd:YAG-PLD法によるナノロッド導入YBa₂Cu₃O_y薄膜の作製と臨界電流特性の成膜温度・ナノロッド添加量依存性(II)

著者 (6件)： 藤田夏斗 (高知工大 環境理工) ,  一瀬中 (電力中研) ,  春田正和 (東北大) ,  前田敏彦 (高知工大 環境理工) ,  土井俊哉 (京大 大学院) ,  堀井滋 (京大 大学院)
資料名： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
巻： 74th  ページ： ROMBUNNO.18A-P4-34  発行年： 2013年08月31日 
JST資料番号： Y0055B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *YBCO薄膜 ,  *臨界電流 ,  薄膜成長 ,  ナノロッド ,  薄膜 ,  Nd-YAGレーザ ,  *レーザ蒸着 ,  *パルスレーザ蒸着
準シソーラス用語： *PLD【蒸着】 ,  酸化物薄膜 ,  添加量依存性

分類 (4件)： 酸化物系超伝導体の物性  (BM04023I) ,  酸化物薄膜  (BK14050P) ,  酸化物の結晶成長  (BK13050I) ,  原子・分子のクラスタ  (BH09030O)

タイトルに関連する用語 (9件)： Nd ,  YAG ,  PLD法 ,  ナノロッド ,  薄膜 ,  作製 ,  臨界電流 ,  成膜温度 ,  添加量依存性