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J-GLOBAL ID：201302266662006089   整理番号：13A1721536

表面波マイクロ波プラズマCVD蒸着によるカーボンナノウォールの急速成長

Rapid growth of carbon nanowalls by surface wave microwave plasma-enhanced chemical vapor deposition

著者 (2件)： UCHIDA Takashi (Toyo Univ.) ,  YOSHIDA Yoshikazu (Toyo Univ.)
資料名： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
巻： 74th  ページ： ROMBUNNO.17P-P2-35  発行年： 2013年08月31日 
JST資料番号： Y0055B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *炭素 ,  *ナノ構造 ,  *プラズマCVD ,  *薄膜成長 ,  表面波 ,  マイクロ波
準シソーラス用語： *カーボンナノウォール

分類 (2件)： 原子・分子のクラスタ  (BH09030O) ,  半導体の結晶成長  (BK13040X)

タイトルに関連する用語 (5件)： 表面波 ,  マイクロ波プラズマCVD ,  蒸着 ,  カーボンナノウォール ,  成長