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J-GLOBAL ID：201302285574533553   整理番号：13A0990235

大強度パルスパワー装置による絶縁体のWarm Dense Matter状態の形成方法の検討

Study on Generation Methods of Warm Dense Matter Condition of Insulator using Intense Pulsed Power Device

著者 (12件)： 菊池崇志 (長岡技科大) ,  樫根健司 (弓削商船高専) ,  田村文裕 (長岡技科大) ,  林亮太 (長岡技科大) ,  渡部新 (長岡技科大) ,  佐々木徹 (長岡技科大) ,  阿蘇司 (長岡技科大) ,  原田信弘 (長岡技科大) ,  JIANG Weihua (長岡技科大) ,  徳地明 (長岡技科大) ,  徳地明 (パルスパワー技術研) ,  藤岡慎介 (大阪大)
資料名： 電気学会プラズマ研究会資料  (電気学会研究会資料)
巻： PST-13  号： 30-36.38-57  ページ： 97-99  発行年： 2013年05月16日 
JST資料番号： Z0951A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 大強度パルスパワー発生装置ETIGO-IIを用いて,絶縁体のウォームデンスマター(WDM)を生成する2つの方法,1)サファイア等の剛体壁を利用して,パルスパワー放電による通電加熱による定積加熱及び2)パルスパワー装置によって生成した電子ビーム照射によるフライヤー加速を研究した。ETIGO-IIを用いて10kAの電子ビームを発生できるとすると,30μmのDLC薄膜を7000Kまで加熱できると見積もった。

シソーラス用語： *プラズマ生成 ,  抵抗加熱 ,  電子照射 ,  パルス発生器 ,  DLC膜 ,  プラズマ加熱 ,  爆縮 ,  加速 ,  レーザアブレーション
準シソーラス用語： ETIGO-II ,  *ウォームデンスマター ,  パルスパワー発生器 ,  フライヤー加速 ,  通電加熱 ,  定積加熱 ,  電子ビーム照射

分類 (1件)： プラズマ生成・加熱  (BJ02060E)

引用文献 (10件)：

• (1) 例えば,「高エネルギー密度プラズマ研究とその応用 第1章 高エネルギー密度プラズマのモデル」,プラズマ・核融合学会誌,75巻増刊2号,1999年11月
• (2) S. Chawla, et al., Phys. Rev. Lett. 110 (2013) 025001
• (3) S. Fujioka, et al., Plasma Physics Controlled Fusion 54 (2012) 124042
• (4) W. Jiang, et al., Jpn. J. Appl. Phys. 32 (1993) L752
• (5) Y. Amano, et al., Rev. Sci. Instrum. 83 (2012) 085107

タイトルに関連する用語 (2件)： パルスパワー ,  絶縁体