特許
J-GLOBAL ID：201303025184714427
非晶質炭素膜の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
大川 宏
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-511222
特許番号：特許第4871860号
出願日： 2006年03月27日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 有機化合物を含む液体中に気泡を発生させるとともに該気泡に電磁波を照射して該気泡の内部にプラズマを発生させ、該気泡を基材の表面に接触させて、該基材の表面に非晶質炭素膜を形成する非晶質炭素膜の製造方法であって、
前記電磁波は、前記非晶質炭素膜の形成開始から終了まで前記気泡に照射され、
前記有機化合物は、炭素数が1〜12であるアルコールおよびフェノールから選ばれる一種以上からなることを特徴とする非晶質炭素膜の製造方法。
IPC (2件)：
C01B 31/02 ( 200 6.01)
, C23C 16/27 ( 200 6.01)
C01B 31/02 101 Z
, C23C 16/27
