特許
J-GLOBAL ID:201303098033753592

マイクロスフィアの製造装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 小山 有 ,  矢野 裕也
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-050728
公開番号(公開出願番号):特開2007-229543
特許番号:特許第5045874号
出願日: 2006年02月27日
公開日(公表日): 2007年09月13日
請求項(抜粋):
【請求項1】 分散相が供給される分散相領域と、連続相が供給される連続相領域と、前記分散相領域と連続相領域とを連通せしめるマイクロチャネルと、前記マイクロチャネルを介して分散相粒子が連続相内に押し出されることで形成されるエマルションを回収するエマルション回収路と、エマルションを構成する分散相粒子を円盤状、偏平板状、棒状若しくは糸状などの非球形に成形する成形部と、エマルションを構成する分散相粒子の少なくとも表面を固化せしめるべくエマルション回収路またはエマルション回収路の下流側に配置される固化手段を備えたマイクロスフィアの製造装置において、 前記成形部はテラス状突条の上に対向面が長尺壁である複数の突部を設けて構成され、前記突部の長尺壁間に前記マイクロチャネルが形成され、前記突部の高さ(h1)と前記突条の高さ(h2)の比(h1/h2)を分散相粒子の形状が非球形となるように設定していることを特徴とするマイクロスフィアの製造装置。
IPC (5件):
B01F 5/06 ( 200 6.01) ,  B01J 19/00 ( 200 6.01) ,  B01J 2/00 ( 200 6.01) ,  B01F 3/08 ( 200 6.01) ,  B01J 13/00 ( 200 6.01)
FI (5件):
B01F 5/06 ,  B01J 19/00 N ,  B01J 2/00 A ,  B01F 3/08 A ,  B01J 13/00 A
引用特許:
出願人引用 (5件)
全件表示
審査官引用 (5件)
全件表示

前のページに戻る