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J-GLOBAL ID：201402204329149702   整理番号：14A0926485

光メタマテリアルを実現する注目の加工技術 ナノインプリントリソグラフィによる可視光応答メタマテリアル作製

著者 (2件)： 上原卓也 (東北大) ,  久保祥一 (東北大)
資料名： Optronics  (Optronics)
号： 392  ページ： 55-59  発行年： 2014年08月10日 
JST資料番号： Y0019A  ISSN： 0286-9659  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 本研究では,反応性単分子膜を基板界面に導入して制御性や安定性などを向上させたナノインプリントリソグラフィによって,線幅約50nmの金スプリットリング共振器(SRR)配列体を5mm角全面に均一に作製することに成功した。さらに,作製した金SRR配列体の可視光領域における光学特性を検証したところ,本配列体が可視光領域内で磁場応答を示すことなどを確認し,重要な知見を得ることができた。これらによって,本手法がメタマテリアルの光学素子化に向けた大面積パターニング技術として期待できることを明らかにした。

シソーラス用語： *光学材料 ,  *人工材料 ,  機能材料 ,  磁性材料 ,  *リソグラフィー ,  *パターン形成 ,  *押付成形 ,  *可視光 ,  金 ,  *リング共振器 ,  *光学素子 ,  単分子層 ,  金属薄膜 ,  超薄膜 ,  レジスト
準シソーラス用語： スプリットリング共振器 ,  ナノインプリントリソグラフィー ,  *メタマテリアル ,  金薄膜

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  固体デバイス材料  (NC03020K)

タイトルに関連する用語 (6件)： メタマテリアル ,  注目 ,  ナノインプリントリソグラフィ ,  可視光 ,  応答 ,  作製