特許
J-GLOBAL ID:201403002396323158

高次シラン組成物および膜付基板の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 大島 正孝 ,  勝又 秀夫 ,  白石 泰三
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-003554
公開番号(公開出願番号):特開2010-159191
特許番号:特許第5604044号
出願日: 2009年01月09日
公開日(公表日): 2010年07月22日
請求項(抜粋):
【請求項1】 高次シラン化合物および溶媒を含有する組成物であって、 前記高次シラン化合物が、下記式(2)および(3) SiiX2i (2) SijX2j-2 (3) (上記式中、Xは、それぞれ、水素原子またはハロゲン原子であり、iは3〜8の整数であり、jは4〜14の整数である。) のそれぞれで表される化合物よりなる群から選択される少なくとも1種のシラン化合物に紫外線を照射して得られたものであり、 前記溶媒が、二重結合を1つまたは2つ有し、アルキル基を有さず、炭素および水素のみから構成され、屈折率が1.40〜1.51であり、比誘電率が3.0以下であり、そして分子量が180以下である環状炭化水素を含有してなることを特徴とする、高次シラン組成物。
IPC (5件):
C01B 33/04 ( 200 6.01) ,  H01L 21/316 ( 200 6.01) ,  H01L 21/208 ( 200 6.01) ,  C01B 33/02 ( 200 6.01) ,  C01B 33/12 ( 200 6.01)
FI (5件):
C01B 33/04 ,  H01L 21/316 G ,  H01L 21/208 Z ,  C01B 33/02 D ,  C01B 33/12 C
引用特許:
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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