特許

J-GLOBAL ID：201403011011871418

研磨パッドの製造方法

発明者： 谷 泰弘 ,  村田 順二 ,  桐野 宙治
出願人/特許権者： 株式会社クリスタル光学 ,  学校法人立命館
代理人 (1件)： 渡辺 三彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-175406
公開番号（公開出願番号）：特開2014-193518
出願日： 2013年08月27日
公開日（公表日）： 2014年10月09日
要約：

【課題】 研磨加工を行う際に使用する研磨材(砥粒)に対する滞留性を改善する樹脂を容易にナップ層に含ませることにより研磨能率を向上させることができる研磨パッドの製造方法を提供する。【解決手段】 溶剤として用いるジメチルホルムアミド(DMF)液に湿式凝固可能な樹脂を混合し、2マイクロリットルの研磨液を滴下した際の接触角が65度以下である親水性樹脂を添加した樹脂溶液を基材に塗布する工程と、前記樹脂溶液が塗布された前記基材を凝固液中に浸漬し、湿式凝固させナップ層を形成する工程とを含む製造方法。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

溶剤として用いるジメチルホルムアミド(DMF)液に湿式凝固可能な樹脂を混合し、2マイクロリットルの研磨液を滴下した際の接触角が65度以下である親水性樹脂を添加した樹脂溶液を基材に塗布する工程と、 前記樹脂溶液が塗布された前記基材を凝固液中に浸漬し、湿式凝固させナップ層を形成する工程と、を含むことを特徴とする研磨パッドの製造方法。

IPC (3件)：

B24B 37/24 ,  H01L 21/304 ,  C08J 5/14

FI (4件)：

B24B37/00 L ,  B24B37/00 P ,  H01L21/304 622F ,  C08J5/14

Fターム (31件)：

3C058AA07 ,  3C058AA09 ,  3C058CA06 ,  3C058CB03 ,  3C058DA17 ,  4F071AA29 ,  4F071AA29A ,  4F071AA42 ,  4F071AA42A ,  4F071AA53 ,  4F071AA54 ,  4F071AA54A ,  4F071AA60 ,  4F071AA60A ,  4F071AA67 ,  4F071AA67A ,  4F071AB03 ,  4F071AB03A ,  4F071AB18 ,  4F071AB18A ,  4F071AB26 ,  4F071AB26A ,  4F071AH19 ,  4F071DA20 ,  5F057AA12 ,  5F057AA24 ,  5F057BA12 ,  5F057BB03 ,  5F057DA02 ,  5F057EB03 ,  5F057EB30