特許
J-GLOBAL ID:201403055269048403
半導体装置及びその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (3件):
池田 憲保
, 福田 修一
, 佐々木 敬
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-545346
特許番号:特許第5326093号
出願日: 2007年10月24日
請求項(抜粋):
【請求項1】 発光層が陰極と陽極で挟まれた構造を持ち、前記陰極及び前記陽極の内の少なくとも一方が単層カーボンナノチューブを含み、前記単層のカーボンナノチューブは、ドナー又はアクセプターを内包し、前記発光層は電界発光を行い、
前記ドナーは、単層カーボンナノチューブの有効真性仕事関数より小さなイオン化ポテンシャルを持ち、前記ドナーを含む単層カーボンナノチューブの仕事関数が、前記発光層に含まれる発光材料のLUMOエネルギー準位となるように調整され、当該単層カーボンナノチューブは前記陰極を構成するとともに、
前記アクセプターは、前記単層カーボンナノチューブの有効真性仕事関数より大きな電子親和力を持ち、前記アクセプターを含む単層カーボンナノチューブの仕事関数が、前記発光層に含まれる発光材料のHOMOエネルギー準位となるように調整されて当該単層カーボンナノチューブは前記陽極を構成することを特徴とする半導体装置。
IPC (3件):
H05B 33/26 ( 200 6.01)
, H01L 51/50 ( 200 6.01)
, H05B 33/10 ( 200 6.01)
FI (3件):
H05B 33/26 Z
, H05B 33/14 A
, H05B 33/10
引用特許: