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J-GLOBAL ID：201502207723594556   整理番号：15A0062474

A FMとXPSを用いたITO/ルブレンの表面および界面分析【Powered by NICT】

Surface and Interface Analysis of ITO/Rubrene Using AFM and XPS

著者 (4件)： Wang Jinshun (Inst. of Microelectronics,School of Physical Sci. and Technol.,Lanzhou Univ., Lanzhou) ,  Xiang Dongxu (Inst. of Microelectronics,School of Physical Sci. and Technol.,Lanzhou Univ., Lanzhou) ,  Li Hairong (Inst. of Microelectronics,School of Physical Sci. and Technol.,Lanzhou Univ., Key Lab. for Magnetism, Lanzhou) ,  Peng Yingquan (Inst. of Microelectronics,School of Physical Sci. and Technol.,Lanzhou Univ., Key Lab. for Magnetism, Lanzhou)
資料名： Faguang Xuebao  (Faguang Xuebao)
巻： 35  号： 2  ページ： 207-212  発行年： 2014年 
JST資料番号： W1380A  ISSN： 1000-7032  CODEN： FAXUEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 表面形態と酸化インジウム錫(ITO)/ルブレンの界面電子状態を,原子間力顕微鏡(A FM)とX線光電子分光法(XPS)により調べた。A FMの結果は,ITO上に析出したルブレンフィルムは非常に均一であることを明らかにした。XPSの結果は表面のC1sスペクトルにおける3の主ピーク282(50,284)70,289-30eVにそれぞれ位置することを示した。それらはC-Si,C O,C C結合に関連している。スパッタリング時間の増加とともに,芳香族Cに対応するピークは強くなるが,他のピークは急速に消滅した。表面における酸素不純物の除去として,O1sピークは最初は青を弱め,その後徐々に強くなる。O原子は主にCと結合すると,界面におけるO C,C Oとアルデヒド基を形成する。In3dおよびSn3dのピークは徐々に強化し,ITO/ルブレンの界面近傍に安定になる。C1s,In3dおよびSn3dのピークが低束縛エネルギー側へシフトし,ルブレン膜の相互作用と界面におけるITOによって形成された相互拡散系を示した。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： 相互拡散 ,  スパッタリング ,  X線光電子分光法 ,  高速度 ,  *界面 ,  スペクトル ,  酸素 ,  電子状態 ,  相互作用 ,  不純物 ,  原子間力顕微鏡
準シソーラス用語： 表面形態 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 発光素子  (NC03082G) ,  有機化合物のルミネセンス  (BM08094A)

物質索引 (1件)： ルブレン

タイトルに関連する用語 (5件)： Fm ,  XPS ,  ITO ,  ルブレン ,  界面分析