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J-GLOBAL ID：201502207760300962   整理番号：15A0836078

シリカ上に支持されたNi(0)粒子の表面酸化メカニズム

Surface Oxidation Mechanism of Ni(0) Particle Supported on Silica

著者 (4件)： YAMASHITA Shohei (Ritsumeikan Univ., Kusatsu, JPN) ,  YAMAMOTO Yusaku (Ritsumeikan Univ., Kusatsu, JPN) ,  KATAYAMA Misaki (Ritsumeikan Univ., Kusatsu, JPN) ,  INADA Yasuhiro (Ritsumeikan Univ., Kusatsu, JPN)
資料名： Memoirs of the SR Center, Ritsumeikan University  (Memoirs of the SR Center, Ritsumeikan University)
号： 17  ページ： 39-49  発行年： 2015年05月 
JST資料番号： L4610A  ISSN： 1345-1650  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 非均質触媒系の化学反応は活性種の粒子表面上で進められる。この論文では,SiO₂上に支持された金属Ni(0)粒子の表面酸化プロセスがin-situ X線吸収微細構造(XAFS)と時間分解分散XAFS(DXAFS)法によって調べられた。還元されたNi(0)粒子の表面層が室温でO₂上雰囲気に曝すことによって酸化された。酸化された部分は全Ni種のca.5%であり,酸化層の深さは38nmの平均粒子サイズを考慮してca.3Åであると評価された。反応速度論的分析は,全体の表面酸化反応は解離吸着平衡と吸着された酸素を有する表面Ni(0)原子の続いて起こる酸化によって説明される。提案されたメカニズムは条件付き一次速度定数対O₂圧力の飽和依存性によって支持された。

シソーラス用語： *ニッケル ,  *酸化 ,  二酸化ケイ素 ,  XAFS ,  解離吸着 ,  *触媒 ,  化学反応
準シソーラス用語： X線吸収微細構造 ,  シリカ ,  表面酸化

分類 (2件)： 反応速度論・触媒一般  (CB06010G) ,  酸化,還元  (CF02060T)

タイトルに関連する用語 (5件)： シリカ ,  支持 ,  Ni ,  表面酸化 ,  メカニズム