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J-GLOBAL ID：201502281855667477   整理番号：15A0417836

ポリ(ビニルブチラール)の自動的自己修復

Autonomic self-healing of poly(vinyl butyral)

著者 (5件)： ARAYACHUKIAT Sunatda (School of Materials Sci., Japan Advanced Inst. of Sci. and Technol., Nomi, Ishikawa, 923-1292, JPN) ,  DOAN Vu Anh ,  MURAKAMI Tatsuya ,  NOBUKAWA Shogo ,  YAMAGUCHI Masayuki
資料名： Journal of Applied Polymer Science  (Journal of Applied Polymer Science)
巻： 132  号： 22  ページ： ROMBUNNO.42008  発行年： 2015年06月10日 
JST資料番号： C0467A  ISSN： 0021-8995  CODEN： JAPNAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ポリ(ビニルブチラール)(PVB)の自己修復挙動をガラス転移温度Tg以下で評価した。PVBのTgは76°Cであるが,室温でも自動的に自己修復することが分かった。更に,大量の水が膜表面上に吸着していることが分かった。これがPVB中のヒドロキシル基を表面に偏在させるのことに寄与していることが,X線光電子分光法で確認できた。表面が水によって可塑化されるので,カミソリの刃で傷つけられた傷跡は塊のガラス状態中でも修復されることが分かった。更に,修復効率は水による明らかな可塑化効果で,高湿度条件で増大することが分かった。Copyright 2015 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *ポリビニルブチラール ,  *再生 ,  回復 ,  *亀裂 ,  刃物 ,  自己組織化 ,  可塑化 ,  ガラス転移点 ,  高分子膜 ,  X線光電子分光法 ,  示差走査熱量測定 ,  ATR分光法 ,  Fourier変換赤外分光分析 ,  表面分析 ,  ヒドロキシ基
準シソーラス用語： ヒドロキシル基

分類 (2件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M) ,  高分子固体のその他の性質  (CG02025L)

タイトルに関連する用語 (1件)： 自己修復