電子スピン偏極イオンビーム発生方法及びその発生装置

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出願人/特許権者：
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-166145
公開番号（公開出願番号）：特開2013-029435
特許番号：特許第5804256号
出願日： 2011年07月29日
公開日（公表日）： 2013年02月07日
請求項（抜粋）：

【請求項1】希ガス元素イオンからなるイオンビームを発生させる工程と、前記イオンビームを標的の一面に入射して、散乱イオンビームを出射させる工程と、前記散乱イオンビームを静電アナライザ内に取り込んで、電界を印加して、電子スピン偏極イオンビームを発生させる工程と、を有する電子スピン偏極イオンビーム発生方法であって、前記イオンビームを標的の一面に入射する際、前記イオンビームの入射方向と前記散乱イオンビームの出射方向の両者を含む散乱面に対して、磁場の方向が80°以上100°以下の方向となるように、前記標的に磁場を印加することを特徴とする電子スピン偏極イオンビーム発生方法。

IPC (2件)：