特許
J-GLOBAL ID：201503053721699772
晶析過程制御方法および装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (2件)：
三好 秀和
, 工藤 理恵
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-143847
公開番号（公開出願番号）：特開2012-005953
特許番号：特許第5704630号
出願日： 2010年06月24日
公開日（公表日）： 2012年01月12日
請求項（抜粋）：
【請求項1】含まれる晶析対象の成分量を一定とした晶析過程の試料溶液に0.1〜10THzの電磁波を照射するステップと、
前記試料溶液を透過または反射した前記電磁波を検出するステップと、
前記検出された電磁波により前記試料溶液の吸収特性スペクトルを得るステップと、
前記得られた吸収特性スペクトルにおける複数の吸収帯の吸収強度の違いに基づいて前記試料溶液の結晶構造を得るステップと、
前記得られた結晶構造に基づいて前記試料溶液の晶析条件を制御するステップと
を有することを特徴とする晶析過程制御方法。
IPC (2件)：
B01D 9/02 ( 200 6.01)
, G01N 21/3581 ( 201 4.01)
B01D 9/02 625 Z
, B01D 9/02 601 B
, B01D 9/02 602 B
, B01D 9/02 604
, B01D 9/02 611 A
, B01D 9/02 625 A
, B01D 9/02 625 B
, G01N 21/358
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (1件)
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