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J-GLOBAL ID:201602222573771035   整理番号:16A0941992

大気圧熱分解法によるSi-doped DLC薄膜の作製と評価

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資料名:
巻: 77th  ページ: ROMBUNNO.15p-P2-1  発行年: 2016年09月01日 
JST資料番号: Y0055B  ISSN: 2758-4704  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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分類 (1件):
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固体デバイス製造技術一般 
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