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J-GLOBAL ID：201602230595353051   整理番号：16A0394304

フェロセン終端チオール自己組織化単分子膜表面での4.8-keV C₆₀イオンの散乱過程

著者 (3件)： 立川知樹 (東洋大 大学院) ,  内田貴司 (東洋大 大学院) ,  本橋健次 (東洋大 理工)
資料名： 日本物理学会講演概要集(CD-ROM)  (日本物理学会春季大会講演概要集(CD-ROM))
巻： 71  号： 1  ページ： ROMBUNNO.19AAE-6  発行年： 2016年03月22日 
JST資料番号： S0671C  ISSN： 2189-079X  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 炭素ビーム ,  *フラーレンC60 ,  イオン散乱 ,  単分子層 ,  フェロセン ,  チオール ,  NMRイメージング ,  *包接化合物 ,  造影剤
準シソーラス用語： 自己組織化単分子膜 ,  内包フラーレン ,  磁気共鳴用造影剤

分類 (1件)： イオンと分子の衝突・散乱  (BH07040L)

タイトルに関連する用語 (8件)： フェロセン ,  終端 ,  チオール ,  自己組織化単分子膜 ,  C60 ,  イオン ,  散乱 ,  過程