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J-GLOBAL ID：201602236832705762   整理番号：16A0770641

金属化薄膜キャパシタ中の自己修復の実験的研究と数値シミュレーション【Powered by NICT】

The experimental investigation and numerical simulation of self-healing in metallized film capacitors

著者 (3件)： Belko Victor (Department of High Voltage Engineering, Electric Insulation and Cable Technology, Peter the Great St. Petersburg Polytechnic University, Russia) ,  Emelyanov Oleg (Department of High Voltage Engineering, Electric Insulation and Cable Technology, Peter the Great St. Petersburg Polytechnic University, Russia) ,  Ivanov Ivan (Department of High Voltage Engineering, Electric Insulation and Cable Technology, Peter the Great St. Petersburg Polytechnic University, Russia)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2016  号： ICD  ページ： 613-616  発行年： 2016年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： メタライズ膜キャパシタは「自己修復」特徴による誘電体膜の絶縁破壊に耐える能力を持っている。メタライズした電極の最適設計のパターン金属化フィルムキャパシタの高い信頼性を保証する。本論文では,COMSOL Multiphysicsソフトウェアにより自己修復中のセグメント間ゲート電流破壊の数値シミュレーションの結果を提示した。破壊プロセス動力学に顕著な影響を及ぼすので,モデルは金属層高分子膜への熱流を考慮に入れた。シミュレーション結果は実験データと良く一致することを示した。Copyright 2016 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： *シミュレーション ,  絶縁破壊 ,  *メタライゼーション ,  高分子膜 ,  最適設計 ,  *薄膜コンデンサ ,  *コンデンサ ,  熱流
準シソーラス用語： 破壊過程 ,  ゲート電流 ,  COMSOL ,  フィルムコンデンサ ,  *数値シミュレーション ,  *実験研究 ,  *自己修復 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 信号理論  (ND02020G)

タイトルに関連する用語 (5件)： 金属化 ,  薄膜キャパシタ ,  自己修復 ,  実験的研究 ,  数値シミュレーション