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J-GLOBAL ID：201602236964635008   整理番号：16A1190777

シリコン表面における微小水滴の凝縮機構の解析

著者 (7件)： 本多拓哉 (東大) ,  藤本研也 (東大) ,  吉本勇太 (東大) ,  茂木克雄 (東京工大) ,  杵淵郁也 (東大) ,  杉井康彦 (東京工大) ,  高木周 (東大)
資料名： 日本伝熱シンポジウム講演論文集(CD-ROM)
巻： 53rd  ページ： ROMBUNNO.D113  発行年： 2016年 
JST資料番号： F0872D  ISSN： 1346-1532  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： シリコン表面で発生する10μmからサブミクロンスケールの水滴の凝縮を,環境制御型走査電子顕微鏡を用いて水蒸気雰囲気下で観察した。連続画像から水滴の接触角,ベース直径,体積を計測することで,微小水滴の凝縮機構を評価した。ベース直径が一定で接触角が増加するモードと,接触角が一定でベース直径が増加するモードの2種類の成長モードがあることが確認された。また,それぞれのモードにおける水滴の成長速度を,過冷却温度をパラメータとする成長モデルを用いて解析した。(著者抄録)

シソーラス用語： *水滴 ,  表面 ,  *凝縮 ,  微粒子 ,  走査電子顕微鏡 ,  水蒸気 ,  接触角 ,  直径 ,  成長速度 ,  過冷却 ,  *ウエハ【IC】 ,  表面粗さ ,  内固定法
準シソーラス用語： サブミクロン粒子 ,  環境制御型走査電子顕微鏡 ,  連続画像 ,  成長モデル ,  *シリコン基板 ,  ピンニング

分類 (2件)： 相変化を伴う熱伝達  (PA02040V) ,  固体デバイス材料  (NC03020K)

タイトルに関連する用語 (5件)： シリコン ,  微小 ,  水滴 ,  凝縮 ,  解析