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J-GLOBAL ID:201602240271102461   整理番号:16A0993494

高効率(~21%)n-タイプシリコン太陽電池用様々なボロンエミッター技術プロセス開発と比較

Process development and comparison of various boron emitter technologies for high-efficiency (21%) n-type silicon solar cells
著者 (5件):
資料名:
巻: 24  号:ページ: 1109-1115  発行年: 2016年08月 
JST資料番号: W0463A  ISSN: 1062-7995  CODEN: PPHOED  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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本稿は初めて市販レディーのn-タイプパシベートされたミッタ,背面はスピンオンコーティング,スクリーン印刷,イオンインプランテーションと大気圧CVDで形成されたボロンエミッタを持つ全面拡散ソーラーセルの比較を示す。全てのボロンエミッタ技術は殆ど同じ効率~20%を示す。解析モデリングで計算した最適な全面グリッド設計(5ブスバーと100グリッドライン)は直列抵抗の減少によりセル効率のベースラインを20.5%まで持ち上げた。5ブスバーと共に,背面ポイントコンタクトの絶縁物のレーザーアブレーションとAlの物理的な気相デポジッションが0.4%の効率改善に繋がった。結果として,20.9%効率のn-タイプパシベートされたエミッタ,背面は全面拡散されたセルが本稿で実現された。Copyright 2016 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (3件):
分類
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太陽電池  ,  固体デバイス製造技術一般  ,  固体デバイス計測・試験・信頼性 
タイトルに関連する用語 (5件):
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