Chen Fang について
School of Science, and School of Photoelectric Engineering, Changchun University of Science and Technology について
Fang Xuan について
School of Science, and School of Photoelectric Engineering, Changchun University of Science and Technology について
Wang Shuangpeng について
Changchun Institute of Optics, Fine Mechanics and Physics, Chinese Academy of Sciences について
Niu Shouzhu について
School of Science, and School of Photoelectric Engineering, Changchun University of Science and Technology について
Fang Fang について
Nanchang University について
Fang Dan について
School of Science, and School of Photoelectric Engineering, Changchun University of Science and Technology について
Tang Jilong について
School of Science, and School of Photoelectric Engineering, Changchun University of Science and Technology について
Wang Xiaohua について
School of Science, and School of Photoelectric Engineering, Changchun University of Science and Technology について
Liu Guojun について
School of Science, and School of Photoelectric Engineering, Changchun University of Science and Technology について
Wei Zhipeng について
School of Science, and School of Photoelectric Engineering, Changchun University of Science and Technology について
Hongwai yu Jiguang Gongcheng について
堆積速度 について
イオン について
結晶化 について
薄膜 について
前駆体 について
成長速度 について
表面性状 について
蒸着温度 について
ALCVD について
Aluminum nitride について
plasma enhanced atomic layer deposition について
growth rate について
crystallization について
surface roughness について
deposition temperature について
酸化物薄膜 について
半導体薄膜 について
堆積 について
AlN について
表面特性 について