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J-GLOBAL ID：201602250339969557   整理番号：16A0977084

ロバストで弱いライナのための変化する損傷抵抗を用いた範囲ULK ILD材料のためのTDDBに及ぼすH_2Oの影響【Powered by NICT】

Effect of H₂O on TDDB for a range of ULK ILD materials with varying damage resistance for robust and weak liners

著者 (5件)： Liniger E. G. (IBM T.J. Watson Research Center, 1101 Kitchawan Road, Yorktown Heights, N.Y. 10598 2. Columbia University) ,  Laibowitz R. B. (IBM T.J. Watson Research Center, 1101 Kitchawan Road, Yorktown Heights, N.Y. 10598 2. Columbia University) ,  Shaw T. M. (IBM T.J. Watson Research Center, 1101 Kitchawan Road, Yorktown Heights, N.Y. 10598 2. Columbia University) ,  Cohen S. A. (IBM T.J. Watson Research Center, 1101 Kitchawan Road, Yorktown Heights, N.Y. 10598 2. Columbia University) ,  Raja A. (IBM T.J. Watson Research Center, 1101 Kitchawan Road, Yorktown Heights, N.Y. 10598 2. Columbia University)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2016  号： IRPS  ページ： DI-7-1-DI-7-5  発行年： 2016年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,TDDB寿命間の相関に注目してきた,ロバストなライナを用いた異なるILD材料のH_2O意図的に導入し,トップ表面損傷の存在。緩く結合した物理吸着したH2Oの移動の活性化エネルギーは交流損失測定を用いて得た。は比較的低電圧で長期ストレス下で意図的に作製した薄い/弱いライナーを通した金属線のうちCu絞りにおける水分の役割を明らかにした。交流損失,I-V,三角波電圧掃引(TVS)とTDDB測定は全てのCu線ILDへの移動であるという証拠を提供する。Copyright 2016 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： 三角波 ,  物理吸着 ,  金属線 ,  電圧 ,  活性化エネルギー ,  絞り ,  交流損失 ,  *ロバスト性 ,  水分 ,  *ライナ
準シソーラス用語： 銅線 ,  低電圧 ,  *TDDB , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： パターン認識  (JE07000S)

タイトルに関連する用語 (4件)： ロバスト ,  ライナ ,  損傷抵抗 ,  TDDB