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J-GLOBAL ID:201602251582561937   整理番号:16A1150680

部分トレンチ分離を用いたフォトダイオード高フィルファクタ4H-SiCアバランシェフォトダイオード【Powered by NICT】

High Fill-Factor 4H-SiC Avalanche Photodiodes With Partial Trench Isolation
著者 (8件):
資料名:
巻: 28  号: 22  ページ: 2526-2528  発行年: 2016年 
JST資料番号: T0721A  ISSN: 1041-1135  CODEN: IPTLEL  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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部分トレンチ分離を用いた傾斜メサ4H-SiC紫外線(UV)アバランシェ・フォトダイオード(APD)を報告した。この部分的トレンチアイソレーション構造を採用することにより,APDの素子直径は150~μmである場合,その曲線因子は,従来の全トレンチアイソレーション構造と比較して33.9%から63.5%に増加させることができる。APDの光電流は対応する改善を示す同じUV光源で照射した。電流 電圧,スペクトル応答,および単一光子検出特性化を通して,部分的トレンチアイソレーションAPDの性能は,従来の全トレンチアイソレーション構造と比較して劣化させないことを証明した。暗計数率は1Hz/μm~2で固定されているときに部分的トレンチアイソレーションの本論文で作製したAPDは280nmで270nmで66.4%の単位利得ピーク量子効率と9.5%の単一光子検出効率を示した。Copyright 2016 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (4件):
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光集積回路,集積光学  ,  その他の光伝送素子  ,  固体デバイス製造技術一般  ,  光導波路,光ファイバ,繊維光学 
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