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J-GLOBAL ID：201602251602997848   整理番号：16A1337336

ヘリウムフリー動作のマルチパターニング液浸リソグラフィー用の次世代ArFエキシマレーザ

The next generation ArF Excimer Laser for multiple-patterning immersion lithography with helium free operation

著者 (7件)： MIYAMOTO Hirotaka (Gigaphoton Inc., Tochigi, JPN) ,  KUMAZAKI Takahito (Gigaphoton Inc., Tochigi, JPN) ,  TSUSHIMA Hiroaki (Gigaphoton Inc., Tochigi, JPN) ,  KUROSU Akihiko (Gigaphoton Inc., Tochigi, JPN) ,  OHTA Takeshi (Gigaphoton Inc., Tochigi, JPN) ,  MATSUNAGA Takashi (Gigaphoton Inc., Tochigi, JPN) ,  MIZOGUCHI Hakaru (Gigaphoton Inc., Tochigi, JPN)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 9780  ページ： 97801I.1-97801I.6  発行年： 2016年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 最先端デバイスの開発要件を満たす有望な技術として,マルチパターニングArF液浸リソグラフィーに着目した。液浸リソグラフィーでは,ArFエキシマレーザが利用されているが,ヘリウムの希少な資源不足の防止と運用コストの削減のために,新型のArFエキシマレーザ(GT64A型)を開発した。GT64A型の動作原理を説明し,性能を検証した。GT64A型は,ヘリウムフリーで動作し,狭いスペクトル帯域幅を実現した。低熱負荷の制限条件において,ヘリウムの代替パージガスとして,安価な窒素ガスを使用した。窒素ガスは,ヘリウムよりも温度上昇に対して約10倍の感度を有し,屈折率変化により,高デューティサイクル動作で帯域幅が拡大した。この効果は,光学素子や機械部品での熱効果を低減することにより解決した。ヘリウムガスパージを利用せずに,レーザビームの熱波面変形を低減し,スペクトル帯域幅を狭くできることが分かった。

シソーラス用語： *エキシマレーザ ,  アルゴン化合物 ,  フッ化物 ,  *フォトリソグラフィー ,  開口数 ,  露光 ,  *パターン形成 ,  レーザビーム ,  光学素子 ,  機械要素 ,  屈折率 ,  帯域幅 ,  熱影響 ,  ヘリウム ,  窒素
準シソーラス用語： *ArFエキシマレーザ ,  *液浸リソグラフィー

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (6件)： ヘリウム ,  マルチ ,  パターニング ,  液浸リソグラフィー ,  次世代 ,  ArFエキシマレーザ