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J-GLOBAL ID：201602256644880112   整理番号：16A1283659

AC電圧印加下での真空球の円筒アルミナ絶縁体の内部の表面電荷分布の研究【Powered by NICT】

Investigation on surface charge distribution inside of cylindrical alumina insulator of vacuum bulb under AC voltage application

著者 (7件)： Fukuda H. (MEIDENSHA CORPORATION, 410-8588, Shizuoka, Japan) ,  Ishikawa K. (MEIDENSHA CORPORATION, 410-8588, Shizuoka, Japan) ,  Yamamura K. (MEIDENSHA CORPORATION, 410-8588, Shizuoka, Japan) ,  Sano A. (MEIDENSHA CORPORATION, 410-8588, Shizuoka, Japan) ,  Yoshida R. (Saitama University, 338-8570, Saitama, Japan) ,  Yamano Y. (Saitama University, 338-8570, Saitama, Japan) ,  Yamamoto O. (Research Institute for Applied Science, 606-8202, Kyoto, Japan)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2016  号： ISDEIV  ページ： 1-4  発行年： 2016年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 真空遮断器(VI)のような真空装置設計では,真空中の表面フラッシュオーバの特性,絶縁体の帯電により生じるを把握することが重要因子の一つである。本研究では,AC電圧印加後VIのモデル絶縁体としてボトル型絶縁体内部電荷分布特性を測定した。絶縁体は三重会合点(TJ)近傍の電場を緩和するために絶縁体の両端におけるシールドリング(遮蔽)を持ち,シールドと電荷分布の形態の関係を調べた。その結果,交流電圧を同じ試料に三倍同様に適用した場合,二番目と三番目の応用における表面電荷の最大値は徐々にコンディショニング効果のために減少し,第一のそれと比較した。シールドと絶縁体の間のクリアランスが狭い試料の帯電の還元速度は広いクリアランスよりも高かった。Copyright 2016 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： クリアランス ,  真空遮断器 ,  電場 ,  *アルミナ ,  真空装置 ,  交流電圧 ,  *絶縁材料 ,  フラッシュオーバ ,  *表面電荷 ,  *電荷分布 ,  三重会合点 ,  *円筒 ,  *絶縁体
準シソーラス用語： 還元速度 ,  *電圧印加 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 信号理論  (ND02020G)

タイトルに関連する用語 (7件)： AC電圧 ,  印加 ,  真空 ,  アルミナ ,  絶縁体 ,  電荷分布 ,  研究