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J-GLOBAL ID：201602267482432533   整理番号：16A0415566

円管内オリフィス下流における熱伝達構造の非定常挙動

著者 (3件)： 椎原尚輝 (防衛大) ,  中村元 (防衛大) ,  山田俊輔 (防衛大)
資料名： 日本機械学会流体工学部門講演会講演論文集(CD-ROM)
巻： 93rd  ページ： ROMBUNNO.1515  発行年： 2015年 
JST資料番号： L0394B  ISSN： 1348-2882  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 高速度赤外線カメラを用いた手法により,円管オリフィス再付着領域における熱伝達変動を測定した。壁面近傍の渦構造の移動に対応した熱伝達構造の移動速度を評価した。その結果,時間平均熱伝達率の極大位置は,時間平均再付着位置よりも上流側に存在した。このメカニズムの調査のため,瞬時再付着位置を抽出条件とし,瞬時熱伝達率分布のアンサンブル平均を行った。その結果,上流の再付着ほど伝熱促進への寄与度が高いことが明らかになった。これが,時間平均熱伝達率の極大位置が時間平均再付着位置よりも上流側に存在する理由である。(著者抄録)

シソーラス用語： *水流 ,  水平円管 ,  *オリフィス ,  *噴流 ,  *強制対流熱伝達 ,  *非定常流 ,  *熱流力特性 ,  粒子画像流速測定 ,  計測 ,  実験
準シソーラス用語： 実験計測

分類 (2件)： 噴流  (BC02080F) ,  対流・放射熱伝達  (PA02030K)

タイトルに関連する用語 (6件)： 円 ,  管内オリフィス ,  下流 ,  熱伝達 ,  非定常 ,  挙動