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J-GLOBAL ID:201602270570870739   整理番号:16A0791837

原子酸素と紫外総合照射下でKAPTON/ALの構造変化【JST・京大機械翻訳】

Effect of atomic oxygen and ultraviolet on surface structure and composition of Kapton/Al film
著者 (7件):
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巻: 27  号: 12  ページ: 124006-1-124006-7  発行年: 2015年 
JST資料番号: C2482A  ISSN: 1001-4322  CODEN: QYLIEL  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 中国 (CHN)  言語: 中国語 (ZH)
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KAPTON/AL膜の二次表面鏡についてレーザー源原子Yang地上シミュレーション装置において原子酸素照射と紫外総合実験を行い,KAPTON/AL薄膜の品質と日射吸収率の変化を研究した。重点を実験前後のKAPTON/AL薄膜の表面構造および成分の変化に注目した。結果:KAPTON/AL膜の二次表面鏡の品質は照射時間の増加とともに徐々に減少したが,照射時間の増加は,日射吸収率の変化傾向はそれと逆に徐々に増大した;総合的な照射後KAPTON/AL薄膜表面の主な官能基の数は下降傾向を呈した;総合プロセスにおける材料の表面C-C結合がC-N結合の破壊と再結合して新しい化学構造が紫外と原子酸素環境において形成した照射したKAPTON/AL薄膜の性能劣化をもたらす主要な微視的機構である。小分子ガスの揮発によるKAPTON/AL薄膜の質量損失の主な原因である。Data from the ScienceChina, LCAS.【JST・京大機械翻訳】
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光化学反応 
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