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J-GLOBAL ID：201602271823000117   整理番号：16A0584528

反復コンパクトトーラス入射装置に向けて開発【Powered by NICT】

Development Toward a Repetitive Compact Torus Injector

著者 (7件)： Onchi T. (Res. Inst. for Appl. Mech., Kyushu Univ., Fukuoka, Japan) ,  McColl D. (Dept. of Phys. & Eng. Phys., Univ. of Saskatchewan, Saskatoon, SK, Canada) ,  Rohollahi A. (Dept. of Phys. & Eng. Phys., Univ. of Saskatchewan, Saskatoon, SK, Canada) ,  Xiao C. (Dept. of Phys. & Eng. Phys., Univ. of Saskatchewan, Saskatoon, SK, Canada) ,  Hirose A. (Dept. of Phys. & Eng. Phys., Univ. of Saskatchewan, Saskatoon, SK, Canada) ,  Dreval M. (Inst. of Plasma Phys., Nat. Sci. Center ”Kharkov Inst. of Phys. & Technol.”, Kharkiv, Ukraine) ,  Wolfe S. (Plasmionique Inc., Varennes, QC, Canada)
資料名： IEEE Transactions on Plasma Science  (IEEE Transactions on Plasma Science)
巻： 44  号： 2  ページ： 195-200  発行年： 2016年 
JST資料番号： D0036B  ISSN： 0093-3813  CODEN： ITPSBD  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高繰返し速度で動作するコンパクトトーラス(CT)入射装置を開発した。反復操作のための絶縁ゲートバイポーラトランジスタと蓄積コンデンサバンク(遅いバンク)のスタックから成るシステムはCT形成と加速の両方の回路に設置した。CT放電回路でイグナイトロントリガリングの目的のためのシリコン制御整流器の設置後,10Hzの繰返し速度はサスカチュワンCTインジェクタの大学で達成された。Copyright 2016 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： IGBT ,  インゼクタ ,  放電 ,  *コンパクトトーラス ,  サイリスタ
準シソーラス用語： 繰返し速度 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (3件)： サイリスタ ,  絶縁ゲートバイポーラトランジスタ(IGBT) ,  プラズマ源

分類 (2件)： プラズマ装置  (BJ02082I) ,  プラズマ応用  (BJ02110K)

タイトルに関連する用語 (3件)： 反復 ,  コンパクトトーラス ,  開発