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J-GLOBAL ID：201602275576944417   整理番号：11A1958348

Optimization of PID Control Parameters for Large Diameter Silicon Crystal Growth

著者 (6件)： Jiang Jian (GRINM Semiconductor Materials Co., Ltd, Beijing) ,  Deng Shujun (GRINM Semiconductor Materials Co., Ltd, Beijing) ,  Dai Xiaolin (GRINM Semiconductor Materials Co., Ltd, Beijing) ,  Wu Zhiqiang (General Res. Inst. for Non-Ferrous Metals, Beijing) ,  Zhu Qinfa (GRINM Semiconductor Materials Co., Ltd, Beijing) ,  Liu Bing (GRINM Semiconductor Materials Co., Ltd, Beijing)
資料名： Xiyou Jinshu  (Xiyou Jinshu)
巻： 34  号： 6  ページ： 945-949  発行年： 2010年 
JST資料番号： C2058A  ISSN： 0258-7076  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

タイトルに関連する用語 (1件)： PID