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J-GLOBAL ID：201602280687494843   整理番号：16A0828550

電子後方散乱回折技術の研究を用いて高純金スパッタリングターゲットのミクロ組織とテクスチャーの【JST・京大機械翻訳】

Microstructureand Texture Investigation of Sputtering Target Materials of High Purity Gold by EBSD

著者 (5件)： Zhu Yong (Sino-Platinum Metals Co., Ltd.) ,  Yang Anheng (Sino-Platinum Metals Co., Ltd.) ,  Zhang Jixiang (Sino-Platinum Metals Co., Ltd.) ,  Xie Hongchao (Sino-Platinum Metals Co., Ltd.) ,  Lu Shaoping (Sino-Platinum Metals Co., Ltd.)
資料名： Youse Jinshu Gongcheng  (Youse Jinshu Gongcheng)
巻： 6  号： 1  ページ： 5-8  発行年： 2016年 
JST資料番号： C2415B  ISSN： 2095-1744  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 電子後方散乱回折(EBSD)技術の高純金をミクロ組織の有効な手段ターゲットを分析することである,ことで迅速かつ効率的に定量的材料のミクロ組織及び構造を統計、テクスチャ、結晶粒サイズは、ミスオリエンテーション。電子を後方散乱回折技術を用いて,真空精錬プロセスを最適化することにより調製した高純金スパッタリングを,ターゲット、結晶粒界の誤配向は異なる領域のミクロ組織及び集合組織を研究した。結果は,平均粒サイズは206 NMであり,圧延過程において試料の再結晶化が起こる,試料により測定した集合組織(110)平行于Ya面は,RD方向ではない決定高純金ターゲット組織は微細な等軸結晶粒からなり,弱い集合組織であることを示した。Data from the ScienceChina, LCAS.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *スパッタリング ,  再結晶 ,  *回折 ,  結晶粒界 ,  結晶粒径 ,  結晶粒 ,  精錬 ,  集合組織 ,  最適化 ,  圧延 ,  *後方散乱
準シソーラス用語： ミスオリエンテーション ,  *テクスチャ ,  *EBSD , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： high-purity gold ,  sputtering target ,  electron backscatter diffraction ,  misorientation ,  texture

分類 (1件)： 変態組織,加工組織  (WB01030N)

タイトルに関連する用語 (4件)： 電子後方散乱回折 ,  研究 ,  スパッタリングターゲット ,  ミクロ組織