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J-GLOBAL ID：201602280757496185   整理番号：14A0915871

Key Comparison CCQM-K32 for Thickness Measurement of Ultrathin Silicon Oxides on Silicon Wafer

著者 (6件)： Wang Hai (National Inst. of Metrology, Beijing) ,  Liu Fen (Inst. of Chemistry, Chinese Acad. of Sciences, Beijing) ,  Kan Ying (National Inst. of Metrology, Beijing) ,  Song Xiaoping (National Inst. of Metrology, Beijing) ,  Zhao Liangzhong (Inst. of Chemistry, Chinese Acad. of Sciences, Beijing) ,  Qiu Limei (Inst. of Chemistry, Chinese Acad. of Sciences, Beijing)
資料名： Jiliang Xuebao  (Jiliang Xuebao)
巻： 34  号： 6  ページ： 617-622  発行年： 2013年 
JST資料番号： C2540A  ISSN： 1000-1158  CODEN： JIXUEU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)