文献
J-GLOBAL ID:201602283128387764   整理番号:16A1361979

準共晶蒸気-液体-固体半導体ナノワイヤの成長をもたらす表面水素

Surface Hydrogen Enables Subeutectic Vapor-Liquid-Solid Semiconductor Nanowire Growth
著者 (5件):
資料名:
巻: 16  号: 11  ページ: 6717-6723  発行年: 2016年11月 
JST資料番号: W1332A  ISSN: 1530-6984  CODEN: NALEFD  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
ここでは,蒸気-固体界面化学が準共晶VLS化学成長を支配するとともに,触媒と付着層との間の原子輸送を支配する仕方を,直接的かつ定量的に示した。触媒がバルク金属-半導体共晶温度以下に留まる準共晶ナノワイヤ成長は疑問視されており,Au-Ge,Al-Si,Au-InAsなどのいくつかの系で確認された。本研究は,Geナノワイヤ付着層に吸着した水素原子が,触媒からの原子種の輸送をブロックし,これによって,触媒凝固を防止することを示した。この効果は,付着層への原子水素の供給によってもたらされることを明確に実証した。これはGe2H6流動の存在下でも,液体触媒を保持する。触媒凝固は付着層水素の十分な損失後にのみ発生し,これが成長不安定化の原因である。
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

分類 (2件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
金属の結晶成長  ,  凝固 

前のページに戻る