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J-GLOBAL ID：201602288167124526   整理番号：16A0069031

HVDC伝送線路での磁器およびガラス碍子のハードウェア電解腐食試験法【Powered by NICT】

Test Methods for Hardware Electrolytic Corrosion of Porcelain and Glass Insulators on HVDC Transmission Lines

著者 (6件)： Luo Ling (Graduate School at Shenzhen Tsinghua Univ., Shenzhen) ,  Zhang Fuzeng (Electric Power Res. Inst. China Southern Power Grid, Guangzhou) ,  Wang Liming (Graduate School at Shenzhen Tsinghua Univ., Shenzhen) ,  Mei Hongwei (Graduate School at Shenzhen Tsinghua Univ., Shenzhen) ,  Guan Zhicheng (Graduate School at Shenzhen Tsinghua Univ., Shenzhen) ,  Li Licheng (Graduate School at Shenzhen Tsinghua Univ., Shenzhen)
資料名： Diangong Jishu Xuebao  (Diangong Jishu Xuebao)
巻： 30  号： 9  ページ： 103-111  発行年： 2015年 
JST資料番号： C2502A  ISSN： 1000-6753  CODEN： DIJXE5  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 近年,中国におけるハードウェア腐食現象に現れたいくつかのHVDC送電線の磁器とガラス絶縁体が多い。噴霧水法,塩水噴霧法,電解法,及び固体汚れ層を絶縁体の鉄キャップとピンの腐食試験を実施するために使用されている。また,これらの試験法の等価性と実現可能性を比較し,解析した。噴霧水法と塩霧法は試験結果と現場腐食間の比較に基づくハードウェアの電解腐食問題を研究するために提案した。溶液の伝導度と流速は,それぞれ8~10mS/cm(20°C)と8~10L/hである噴霧水法によるFeキャップ腐食試験を実施した。ピンの腐食のための,これらのパラメータは2~3mS/cm(20°C)と2~3l/hとして設定した。溶液の伝導度と流速は10~12mS/cm(20°C)と0.25~0.4L/hである当たり塩霧法による鉄キャップとピンの両方のためのスプリンクラの散布。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： 噴霧 ,  *ハードウェア ,  鉄 ,  *腐食 ,  *磁器 ,  *電解 ,  流速 ,  霧 ,  *腐食試験 ,  絶縁材料 ,  *碍子 ,  絶縁体 ,  伝導率 ,  *試験方法 ,  *電解腐食
準シソーラス用語： *電食 ,  *HVDC , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 絶縁材料  (NA04030W)

タイトルに関連する用語 (8件)： HVDC ,  伝送線路 ,  磁器 ,  ガラス ,  碍子 ,  ハードウェア ,  電解 ,  腐食試験法