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J-GLOBAL ID：201602290093719008   整理番号：16A0720764

ジホスフィンモノオキシドのアルケン類への位置選択的なラジカル付加反応

著者 (4件)： 佐藤悠樹 (大阪府大 大学院) ,  川口真一 (大阪府大 大学院) ,  野元昭宏 (大阪府大 大学院) ,  小川昭弥 (大阪府大 大学院)
資料名： 日本化学会春季年会講演予稿集(CD-ROM)
巻： 96th  ページ： ROMBUNNO.4F7-11  発行年： 2016年03月10日 
JST資料番号： S0493B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ヘテロ原子-ヘテロ原子結合の均等開裂に基づく炭素-炭素不飽和結合へのラジカル付加反応は,二官能性化合物を直接的に合成可能な原子効率に優れた手法である。我々はリン(III)-リン(III)単結合を有するジホスフィンではアルケン類への付加反応は進行しないのに対して,リン(III)-リン(V)単結合を有するジホスフィンモノオキシドを用いると光照射もしくはラジカル開始剤を添加することでアルケン類に位置選択的に付加が進行することを見出した。(著者抄録)

シソーラス用語： *ジホスファン ,  *ラジカル反応 ,  *付加反応 ,  化学反応 ,  アルケン ,  化学合成 ,  分子構造 ,  誘導 ,  ホスフィンオキシド
準シソーラス用語： *ジホスフィン ,  *ラジカル付加 ,  位置選択的反応 ,  光誘起

分類 (2件)： 有機りん化合物  (CF08040N) ,  付加反応,脱離反応  (CF02030M)

物質索引 (1件)： ジフェニル(2-(ジフェニルホスフィノ)ドデシル)ホスフィンオキシド

タイトルに関連する用語 (3件)： アルケン ,  位置選択 ,  ラジカル付加