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J-GLOBAL ID：201602291984802999   整理番号：16A1112262

支持放電を用いたDCマグネトロンスパッタリング法によって調製した窒化チタン(TiN)薄膜の構造,光学,電気特性に及ぼすアニーリングの影響

The effect of annealing on the structural, optical and electrical properties of Titanium Nitride (TiN) thin films prepared by DC magnetron sputtering with supported discharge

著者 (4件)： Kavitha A. (Department of Physics, University College of Engineering, Anna University, Dindigul, Tamil Nadu, India) ,  Kannan R. (Department of Physics, University College of Engineering, Anna University, Dindigul, Tamil Nadu, India) ,  Sreedhara Reddy P. (Department of Physics, Sri Venkateswara University, Tirupati, Andhra Pradesh, India) ,  Rajashabala S. (School of Physics, Madurai Kamaraj University, Madurai, Tamil Nadu, India)
資料名： Journal of Materials Science. Materials in Electronics  (Journal of Materials Science. Materials in Electronics)
巻： 27  号： 10  ページ： 10427-10434  発行年： 2016年10月 
JST資料番号： W0003A  ISSN： 0957-4522  CODEN： JMTSAS  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 支持放電(dc三極マグネトロンスパッタリング)の存在下で,反応性DCマグネトロンスパッタリングによって,ナノ結晶窒化チタン(TiN)薄膜をガラス基板上に堆積した。負にバイアスされた高温の熱電子フィラメントをターゲットと基板間に保持し,非常に低い圧力での放電を維持するために用いた。室温(RT)で堆積したTiN膜を373,473及び573Kの種々の温度で1時間高真空中でアニーリングした。膜のモフォロジー,構造,微細構造,光学及び電気特性を評価した。RT堆積試料のチタン対窒素比は1:1であり,このことをEDAXによって確認した。XRD研究から,堆積したままのTiN薄膜は,非晶質性であり,アニーリング温度の増加と共にナノ結晶構造に変換されることが分った。TiN薄膜の結晶成長は,約373Kで始まり,(111)面に沿った優先配向を持つ面心立方構造となった。アニール温度の上昇に伴い,TiN薄膜のバンドギャップは,2.7から3.2eVに増加することが分った。TiN薄膜のフォトルミネッセンススペクトルから,360nm付近での最大発光ピークと共に可視領域における発光波長の広がりが示唆される。TiN薄膜の電気抵抗率は,アニーリング温度の上昇に伴い,1800から400μΩcmまで著しく低下することが分った。アニーリングしたTiN薄膜のAFM顕微鏡写真から,微細な粒子が大量に蓄積したことに関連する均一な表面パターンが分かる。この研究を通して,支持放電DCマグネトロン技術によって,他のスパッタリング技術と比較してより低いアニーリング温度でTiN膜の必要な物理特性を得ることが可能であることが実証された。Copyright 2016 Springer Science+Business Media New York Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *チタン化合物 ,  *窒化物 ,  薄膜 ,  構造特性 ,  光学的性質 ,  電気特性 ,  アニーリング【現象】 ,  *マグネトロンスパッタリング ,  エネルギー分散X線分光分析 ,  X線回折 ,  Raman分光法 ,  原子間力顕微鏡 ,  モルフォロジー ,  表面構造 ,  光反射 ,  光ルミネセンス ,  電気抵抗率 ,  ナノ結晶 ,  非晶質
準シソーラス用語： 光学特性 ,  窒化チタン ,  表面モルフォロジー

分類 (1件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (10件)： 支持 ,  放電 ,  DCマグネトロンスパッタリング ,  調製 ,  窒化チタン ,  TiN ,  薄膜 ,  光学 ,  電気特性 ,  アニーリング