文献

J-GLOBAL ID：201602292151591499   整理番号：16A0841195

フィルタードカソード真空アーク成長窒化アモルファスカーボン膜の濡れ性,ナノスクラッチ性,熱安定性

Wettability, nanoscratch resistance and thermal stability of filtered cathodic vacuum arc grown nitrogenated amorphous carbon films

著者 (6件)： Shakerzadeh M. (Data Storage Institute, (A*STAR) Agency for Science, Technology and Research, 138634, Singapore) ,  Parrot M. (Data Storage Institute, (A*STAR) Agency for Science, Technology and Research, 138634, Singapore) ,  Parrot M. (Ecole Superieure d’Ingenieurs de Recherche en Materiaux et InfoTronique (ESIREM), Dijon 21078, France) ,  Man Y. (Data Storage Institute, (A*STAR) Agency for Science, Technology and Research, 138634, Singapore) ,  Yang Y. (Data Storage Institute, (A*STAR) Agency for Science, Technology and Research, 138634, Singapore) ,  Xie H. (Data Storage Institute, (A*STAR) Agency for Science, Technology and Research, 138634, Singapore)
資料名： Surface & Coatings Technology  (Surface & Coatings Technology)
巻： 292  ページ： 30-36  発行年： 2016年04月25日 
JST資料番号： D0205C  ISSN： 0257-8972  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： フィルタードカソード真空アーク(FCVA)によって成長させた窒化アモルファスカーボン膜の組成,構造,表面エネルギー,耐ナノスクラッチ性,熱安定性を研究した。X線光電子分光法と電子エネルギー損失分光法分析によって,窒素流量と基板バイアスを制御することによって結合構造および組成の異なるカーボン膜が形成されることが示された。窒素流量が大きい場合,窒素含有量が高く,C≡N結合の安定な膜が得られた。膜の窒素含有量を増加(0から16at%)させると膜の極性表面エネルギーが増加(10から22mJ/m²)するが,分散表面エネルギーは大きく変化しない。膜の熱安定性は組成および結合構造に強く依存する。高い基板バイアス(300V)で作製された窒素含有量の高い膜は,より低いアニーリング温度で黒鉛化される。微小なスクラッチ荷重(35μNまで)での耐スクラッチ性に有意差はみられない。スクラッチ荷重をさらに増加すると,高窒素流量(40SCCM)で作製した膜では,スクラッチ深さが増加した。Copyright 2016 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *炭素 ,  *炭素材 ,  *窒化 ,  *蒸着膜 ,  濡れ ,  耐性 ,  *熱安定性 ,  ウエハ【IC】 ,  化学組成 ,  微細構造 ,  表面エネルギー ,  X線光電子分光法 ,  電子エネルギー損失分光法 ,  窒素 ,  流量 ,  含有量 ,  基板 ,  バイアス ,  黒鉛化 ,  温度 ,  熱処理 ,  損傷 ,  深さ ,  カソード ,  真空アーク ,  焼なまし ,  非晶質 ,  濾過 ,  *イオンめっき
準シソーラス用語： *FCVA ,  アニーリング温度 ,  *アモルファスカーボン ,  ケイ素基板 ,  *フィルタードカソード真空アーク蒸着 ,  引掻傷 ,  *真空アーク蒸着 ,  *真空窒化 ,  *耐スクラッチ性 ,  炭素膜 ,  熱アニーリング ,  *非晶質炭素 ,  非晶質炭素膜

著者キーワード (4件)： Nitrogenated amorphous carbon ,  Surface energy ,  Nanoscratch ,  Thermal stability

分類 (2件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  炭素とその化合物  (YB02060D)

タイトルに関連する用語 (8件)： 真空アーク ,  成長 ,  窒化 ,  アモルファス ,  カーボン膜 ,  濡れ性 ,  ナノスクラッチ ,  熱安定性