文献

J-GLOBAL ID：201602298793212793   整理番号：16A0451274

オキシ水酸化ニッケル/パラジウム薄膜(NiOOH/Pd)の製作とガスクロミック特性

Fabrication of Nickel Oxyhydroxide/Palladium (NiOOH/Pd) Thin Film for Gasochromic Application

著者 (3件)： HU Chih-Wei (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST)) ,  YAMADA Yasusei (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST)) ,  YOSHIMURA Kazuki (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST))
資料名： 電気化学会大会講演要旨集(CD-ROM)
巻： 83rd  ページ： ROMBUNNO.1O31  発行年： 2016年03月23日 
JST資料番号： Y0048B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： 酸化ニッケル ,  水酸化物 ,  *パラジウム ,  ニッケル化合物 ,  析出 ,  *薄膜成長 ,  サイクリックボルタンメトリー ,  パラジウム触媒 ,  電気化学反応 ,  気体 ,  水素 ,  *多層膜 ,  薄膜 ,  物理的性質 ,  *ガスセンサ ,  透過率 ,  *光学的性質
準シソーラス用語： *オキシ水酸化ニッケル ,  化学浴析出法 ,  光透過率 ,  水酸化ニッケル ,  水素ガス ,  薄膜物性 ,  *ガスクロミズム

分類 (3件)： その他の固体デバイス  (NC03150A) ,  分析機器  (CC02020S) ,  その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (5件)： オキシ水酸化ニッケル ,  パラジウム ,  薄膜 ,  Pd ,  製作