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J-GLOBAL ID：201702210457255912   整理番号：17A0747657

トリフルオロメチル基を含む超低誘電率多孔性ポリイミド膜の合成と性質【Powered by NICT】

Synthesis and properties of ultralow dielectric constant porous polyimide films containing trifluoromethyl groups

著者 (6件)： Li Jianwei (MOE Key Laboratory of Applied Physics and Chemistry in Space, Department of Applied Chemistry School of Science, Northwestern Polytechnical University, Xi’an, 710072, China) ,  Zhang Guangcheng (MOE Key Laboratory of Applied Physics and Chemistry in Space, Department of Applied Chemistry School of Science, Northwestern Polytechnical University, Xi’an, 710072, China) ,  Zhu Qi (MOE Key Laboratory of Applied Physics and Chemistry in Space, Department of Applied Chemistry School of Science, Northwestern Polytechnical University, Xi’an, 710072, China) ,  Li Jiantong (MOE Key Laboratory of Applied Physics and Chemistry in Space, Department of Applied Chemistry School of Science, Northwestern Polytechnical University, Xi’an, 710072, China) ,  Zhang Hongming (MOE Key Laboratory of Applied Physics and Chemistry in Space, Department of Applied Chemistry School of Science, Northwestern Polytechnical University, Xi’an, 710072, China) ,  Jing Zhanxin (MOE Key Laboratory of Applied Physics and Chemistry in Space, Department of Applied Chemistry School of Science, Northwestern Polytechnical University, Xi’an, 710072, China)
資料名： Journal of Applied Polymer Science  (Journal of Applied Polymer Science)
巻： 134  号： 8  ページ： ROMBUNNO.44494  発行年： 2017年 
JST資料番号： C0467A  ISSN： 0021-8995  CODEN： JAPNAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,一連のトリフルオロメチル基(CF_3)を含む多孔質コポリイミド(co-PI)膜を相分離プロセスを経て容易に調製した。co-PIは,種々のモル比を有する4,4′-ジアミノジフェニルエーテル(ODA)と3-トリフルオロメチル-4,4′-ジアミノジフェニルエーテル(FODA)の二ジアミンとベンゾフェノン-3,3′,4,4′-テトラカルボン酸二無水物(BTDA)の反応により合成した。平均直径約300μmの厚さと8}10μmの柔軟で強靭な多孔質PI膜はキャスティング溶液によって得ることができた。得られた多孔質PI膜の熱特性は窒素雰囲気下で530°Cから560°Cまでの温度における270°C}280°Cと5%重量損失でガラス転移温度と優れていた。添加では,多孔質PI膜の誘電および疎水性特性は高分子鎖中のトリフルオロメチル基(CF_3)の存在により顕著に改善された。さらに,合成した多孔質PI膜は良好な機械的性質を示した。Copyright 2017 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 相分離 ,  高分子鎖 ,  重量損失 ,  モル比 ,  機械的性質 ,  鋳造 ,  *多孔性 ,  ガラス転移点 ,  熱特性 ,  疎水性
準シソーラス用語： 窒素雰囲気 ,  *低誘電率 ,  *トリフルオロメチル基 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (3件)： 共重合 ,  ポリイミド ,  多孔質材料

分類 (2件)： 高分子固体の物理的性質  (CG02024U) ,  重縮合  (CG04050Z)

タイトルに関連する用語 (5件)： トリフルオロメチル基 ,  低誘電率 ,  多孔性 ,  ポリイミド膜 ,  性質