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J-GLOBAL ID:201702210740685028   整理番号:17A0759286

大気圧化学蒸着により成長させた単分子層W_xMo_1-xS_2:バンドギャップ工学と電界効果トランジスタ【Powered by NICT】

Monolayer WxMo1- xS2 Grown by Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition: Bandgap Engineering and Field Effect Transistors
著者 (18件):
資料名:
巻: 27  号: 13  ページ: ROMBUNNO.201606469  発行年: 2017年 
JST資料番号: W1336A  ISSN: 1616-301X  CODEN: AFMDC6  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: ドイツ (DEU)  言語: 英語 (EN)
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単分子層W_xMo_1xS_2ベース電界効果トランジスタを単分子層W_xMo_1 xS_2フレーク,大気圧下で化学蒸着法により成長させた上で初めて実証した。Ramanおよび光ルミネセンス測定を用いて詳細な材料研究は,成長したままの単分子層W_xMo_1 xS_2で行われてきた。単層W_xMo_1 xS_2の電子バンド構造を,第一原理理論を用いて計算した。単層W_xMo_1 xS_2の熱安定性はけい測定を用いて評価した。作製したW_xMo_1 xS_2FETに及ぼすキャリア輸送の研究を,温度依存電流測定を用いて解析した,300Kで約30cm~2V~ 1s~ 1の電界効果移動度が得られた。Copyright 2017 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (1件):
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トランジスタ 

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