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J-GLOBAL ID：201702211176400992   整理番号：17A0736321

熱純水熱純水を用いて時間霧を除去した。【JST・京大機械翻訳】

Utilization of Hot DI Water for Eliminating Time-Dependent Haze

著者 (2件)： Xiong Chenglei (MCL Electronic Materials, Ltd.) ,  Qi Xudong (MCL Electronic Materials, Ltd.)
資料名： Bandaoti Jishu  (Bandaoti Jishu)
巻： 34  号： 9  ページ： 849-851  発行年： 2009年 
JST資料番号： C2378A  ISSN： 1003-353X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 洗浄プロセスは,SISIの研磨に広く使用されており,その純水は,地域と季節変化によって影響され,最大温度変動は10°C以上である。これらの変動が洗浄後のSI片表面の化学残留物濃度に与える影響について述べ、冬季の水温が低下し、SI片表面の化学残留濃度が上昇し、時間霧の出現を招いた。熱純水漂洗浄技術を用いて、純水加熱器により最終洗浄液を純水に加熱し、純水の温度を安定レベルに保ち、生産中に時間霧の欠陥を有効に除去し、SIの化学的残留濃度を良好なレベルに制御できることを提案した。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 加熱器 ,  冬 ,  *純水 ,  水温 ,  季節的変動 ,  温度変動
準シソーラス用語： 洗浄液 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： silicon polished wafer ,  IPA dryer ,  time-dependent haze ,  hot DI water ,  total reflection X-ray fluorescence spectrometer

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (2件)： 純水 ,  霧