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J-GLOBAL ID:201702211750614450   整理番号:17A0751432

大面積2次元MoTe_2のCVD合成における分子ふるいの役割【Powered by NICT】

Role of Molecular Sieves in the CVD Synthesis of Large-Area 2D MoTe2
著者 (12件):
資料名:
巻: 27  号:ページ: ROMBUNNO.201603491  発行年: 2017年 
JST資料番号: W1336A  ISSN: 1616-301X  CODEN: AFMDC6  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: ドイツ (DEU)  言語: 英語 (EN)
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SiO_2/Si基板上に所望の相をもつ高品質2D MoTe_2の合成はその多様な応用に重要である。基板Si SiTeとSi_2Te_3をもたらすTeの副反応は成長中に起こる,MoTe_2を得るために破壊をもたらす傾向にある。分子ふるいはけい素テルル化副産物を吸着し,MoTe_2の化学蒸着合成時の副反応の影響を除去できることが分かった。分子ふるいの助けを借りて,数層1t′MoTe_2はMoO_x前駆体から成長させることができた。SiO_2/Si基板の同じ小片上に合成したセンチメートルサイズの領域における純粋な1t′MoTe_2と2時間MoTe_2領域が重複して形状を用いて得ることができる。戦略は望ましい相とMoTe_2の制御合成のための新しい方法を提供し,他のテルルベース層状材料の合成に一般化することができた。Copyright 2017 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (2件):
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セラミック・陶磁器の製造  ,  トランジスタ 
タイトルに関連する用語 (5件):
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