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J-GLOBAL ID:201702212562477160   整理番号:17A0404129

UVレーザ/RTAアニールしたAlドープZnO薄膜の増大したコンダクタンス特性【Powered by NICT】

Enhanced conductance properties of UV laser/RTA annealed Al-doped ZnO thin films
著者 (8件):
資料名:
巻: 43  号:ページ: 3900-3904  発行年: 2017年 
JST資料番号: H0705A  ISSN: 0272-8842  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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0.5mo1%アルミニウムドープ酸化亜鉛(AZO)から成る薄膜を透明導電性酸化物(TCO)応用のためのスピンコーティング法によりガラス基板上に作製した。UVレーザはAZO薄膜のアニーリングのために選択された,UVレーザとAZO膜の間で良く整合しエネルギーバンドギャップによるものであった。急速熱アニーリング(RTA)プロセス後,後UVレーザアニーリングは,レーザビームの走査速度を変化させて行い,構造的,形態学的,電気的,および光学的性質に及ぼすレーザアニーリングの影響を調べた。結果は,種々の走査速度に基づくUVレーザアニーリングは,AZO薄膜の微細構造,シート抵抗,光透過率に影響を及ぼす,RTA処理した薄膜のそれと比較してことを示した。X線回折(XRD)分析は基板に垂直に成長した優先的に全ての膜は,(002)ピークを持っていたことを示した。レーザ/RTAアニールしたAZO膜の光透過率スペクトルは可視領域で83%の透過率よりも大きかった。,シート抵抗(1.61kΩ/sq)は,RTAプロセス後の最適化UVレーザアニーリングは膜コンダクタンスを改善することを示した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (1件):
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酸化物薄膜 

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